单个件集成的电元件越多，能耗越小，最终形成的产品便能越小越轻便，也越能拥有更多的功能——而想要达到这样的目的，就得更尖端的光刻机。

但想要让它发挥作用，却依旧要靠电路来完成。

听到这话，无论是张学东任继宪还是冯长宇都兴奋不已，同时也有些悻悻，埋怨龚建亮怎么不早说……

他表示长光所在最近的研究中有一些心得，表示经过研究，如果能用放电汞灯辐紫外光，应该有希望一步的降低光源波长，将现在正在应用的压放电汞灯的光源从极限的365纳米，成功降低到250纳米！

光刻机一帮是由光源，均匀照明系统、投影镜系统、机械及控制系统(包括工件台、掩台、硅片传输系统等构成。

“这是真的吗？”

毕竟近年虽然已经传西方在光刻机方面的研究，其实已经早就突破了微米级，已经在向纳米级发展，但终究还没有实际产品来。

如果不能对这些最初的电元件行技术优化或者整合，最终的结果就只有一个，那就是越复杂的电产品，它的积也就越大……

虽然只是暂时的，但总算是追上过不是？

但随着科技的发展，电产品的功能也在逐渐增，现了诸如电视啊电脑之类的东西。

虽说如电视电脑之类的东西远比最初的电产品来的复杂，但所谓万变不离其宗。

最初的电产品，都是通过各诸如二极等通过电路板的联结来产生作用。所能达到的功能也相对单一。

也就是说，无论多么复杂的功能，其实都得靠最基本的电元件组合，才能达成目的。

正的理解光刻，还得从晶元芯片之类说起。

照张学东冯长宇祁同文等人的说法，国产光刻机，比如已经付华芯行使用的分步式光刻机，虽说对比国外最先产品，在技术方面依旧有差距，不过这个差距并不是太大，更不存在代差……

毕竟大家都采用的都是同等理念，分步式投影。

要长光所能早告诉大家这个成果，自己尽早将其行在光刻机上应用，国产光刻机的技术指标那可就能和西方最先光刻机的技术指标并驾齐驱了！

所谓晶元或者芯片，就是将原本要实现某个产品功能的无数元件，通过技术集中到了一起的产品。

唯一的差别，或许也就是光源了。

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听到此，从到尾一直都没怎么说话的光学投影专家，长光所的龚建亮终于开了。

虽说将无数元件的功能集中在一起，实实现了更小更轻，功能更多的目标……

毕竟只有纳米数越小的光刻机，才能在同等积的芯片或者是晶元上堆叠更多链接电元件，并极大的降低能耗。（芯片和晶元中的线路不是平面的，而是靠堆叠来完成。）

所谓光刻，就是在这或许指甲盖大，但合了几十几百甚至几千个电元件功能的模块中刻画电路，从而让其发挥作用的过程。

而越复杂的电产品，所需要用到的电元件等等数量，也都在成倍数增加……