一条月产能一万片十二寸晶圆的fab制造线，光刻机或许只有四五台，但刻蚀机，却起码要有六十台起步，如果想要追求效率，甚至要堆一百台以上的刻蚀机。

原目光扫过硕大的镜时候，嘴角轻轻扬起一抹弧度，信心满满。

放全球，能到紫外的，只有asml，佳能，尼康三家，而能到极紫外的，则只有荷兰asml，其余所有竞争对手，全惨遭淘汰，消失在历史的长河中。

这一极其重要，毕竟是制造密芯片，哪怕最微小的震动，一粒尘埃，或者空气温度和度的差别，都有可能导致硅片曝光失败，或者前后两批芯片的能不一致。

长光机所的所长叫杜维明，随着他一声令下，全封闭绝尘实验室里，光刻机开始运行，大概也就十几秒钟过后，一片十二寸硅晶圆就被送下了机台。

目前世界上，只有荷兰asml掌握双工作台技术，长这个机台如果量产的话，将是世界第二名。

其实，光刻机工作速度是很快的，每小时片两百张以上，完全不存在任何问题。

一台完整的光刻机，大就是这样了。

“成了！”

这镜来自系统那大猪蹄的馈赠，绝不是把三十多片打磨好的玻璃拼接起来那么简单，除了度，它还有着大的功率补偿机制，容错机制。

“开始！”

整机台最底，是内封闭框架和减振，它们负责将工作台与外环境隔离，保持平，减少外界振动扰，并维持恒定的温度和压力。

实验室里，穿着全无尘服的工程师，取下十二寸硅晶圆，仔细看，会发现上面现了密密麻麻，无比繁杂的线条，灯光下亮晶晶的，甚是喜人。

总之就是很很大的意思，开了外挂的镜，效果杠杠的。

也就是说，激光通过镜后，功率可以得到一定程度提升，度方面，则可以到无限接近完的程度。

“一次片成功，比我预想的还要顺利！”

制约产能的主要是沉积设备，pvd和cvd这类，其次是刻蚀设备包括icpp，die这几机台，另外理设备工作效率也十分人。

目前，中微半导的介质刻蚀技术，硅通孔刻蚀技术，位列全球前三，全球最的半导代工厂台积电，生产线上就有成百上千台来自中微的刻蚀机，算是国产半导行业里比较争气的存在。

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误解，真正的芯片制造程，是激光透过镜在硅片上曝光来的，而不是用机理雕刻来的。

镜下面，就是测量台和曝光台了，老式光刻机需要先测量，再曝光，而这双工作台系统，则可以实现一片硅片曝光同时，对另一片硅片行测量和校准，工作效率提一倍以上。

听上去简单，其实却是人类历史上最复杂最密的机台，没有之一。

“不愧是昆仑集团啊，临时加来的光学系统，竟然和旧机台合的这么好！”